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 氧化硅薄膜窗

氧化硅薄膜窗

RISUN推出新型二氧化硅薄膜窗系列產品。與氮化硅相比，氧化硅更易遭受化學侵蝕，且堅固性更差。但在X-射線顯微鏡中，由于沒有N原子存在而倍受青睞。

氧化硅與氮化硅薄膜窗比較

相比氮化硅薄膜，氧化硅薄膜更適合用于含氮樣本。在EDS研究中，如基片薄膜含氮，則會與樣本造成混淆。

RISUN氧化硅薄膜窗特點

許多研究納米微粒，特別是含氮納米微粒的人員發現此種薄膜窗格在他們實驗中不可缺少。氣凝膠和干凝膠的基本組成微粒尺寸極小，此項研究人員也同樣會發現SPI氧化硅薄膜窗格的價值。

·         SEM應用中，薄膜背景不呈現任何結構和特點。

·         X射線顯微鏡中，裝載多個分析樣的方法。

·         無氮

RISUN氧化硅薄膜窗規格

硅片厚度：200um、381um、525um；

定制系列

RISUN也可以根據用戶需求定制不同膜厚的氧化硅窗口。

本產品為***次性產品，不建議用戶重復使用；本產品不能進行超聲清洗，適合化學清洗、輝光放電和等離子體清洗。

應用簡介

實際上，RISUN氧化硅薄膜應用范圍非常廣，但所有應用都有無氮要求（因樣本中有氮存在）：

1. 惰性基片可用于高溫環境下，通過TEM、SEM或AFM（某些情況下）對反應進行動態觀察。

2. 作為耐用（如“強力”）基片，***先在TEM下，然后在SEM下對同***區域進行“匹配”。

3. 作為耐用匹配基片，對AFM和TEM圖像進行比較。

4. 聚焦離子束（FIB）樣本的裝載。

5．用作Ti、V、Mo等濾光器基質；用于X-射線光學設備中，如分光器

定制服務：本公司接受特殊規格的產品預訂，價格從優。