PICOSUN P-1000 Pro ALD 生產型原子層沉積機
技術參數：
襯底尺寸和類型
。156 mm x 156 mm硅片800～1000片/批次（雙面/背對背）
。高達400 mm x 600 mm玻璃基板30～50片/批次（雙面/背對背）
。大批量的3D產品（例如：鐘表部件，珠寶，硬幣，醫療植入部件，機械部件等）
。多孔，通孔，高深寬比（HAR）樣品
工藝溫度： 50 - 500 °C
基片傳送選件：
。氣動升降（手動裝載，帶叉車forklift cart）
。全自動轉載，用工業機器人實現
前驅體：
。液態、固態、氣態、臭氧源
。前驅源余量傳感器，并提供清洗和裝源服務
。8根獨立源管線，*多加載12個前驅體源
重量： 2000 kg
尺寸：(W x H x D) 230 cm x 270 cm x 125 cm
選件： PICOFLOW™ 擴散增強器，N2發生器，尾氣處理器，定制設計，與工廠軟件連接服務。
驗收標準： 標準設備驗收標準為 Al2O3 工藝
其他可選裝置
其它可選裝置：
PICOFLOW™ 擴散增強器
PICOFLOW™擴散增強器用于提升深溝槽、高深寬比樣品的薄膜質量。同樣適用于多孔、通孔、柔性樣品，粉末及其他復雜納米結構的樣品。該裝置兼容所有Picosun™ ALD設備。
POCA™ ａnd PICOVIBE™ 顆粒沉積系統
PIcosun提供工業及研究型粉末沉積解決方案。POCA™ 300粉末沉積腔可以加工大批量粉末材料，并可以直接集成到PICOSUN™ P-300生產線反應腔內。對于小批量的粉末材料，可以采用POCA™ 200粉末沉積腔集成到PICOSUN™ R系列的設備上。此部件體積小，可以為高質量的粉末材料研究提供多樣化、成本低的解決方案。
Picosun PICOVIBE™裝置可以使前驅源氣體在粉末中的均勻分布，進***步提升粉末中每***個顆粒的薄膜均***性。
可連續沉積的Roll-to-roll 腔室
在印刷電子、OLED包裝、薄膜電池、智能紡織材料、有機傳感器、可循環或可生物降解包裝材料、柔性顯示器等研究領域，均要求連續的ALD鍍膜 工藝。Picosun卷對卷ALD腔室可容納300mm寬的襯底。并可直接集成到PICOSUN™P-300生產型反應腔室上。我們還提供用于研究的小型卷對卷腔室，可容
納70mm寬的襯底。
滬公網安備31011502016460號
