意大利Organic Spintronics 公司建立于2003 年。Organic Spintronics 公司與意大利******研究委員會（CNR）特別是與委員會博洛尼亞分部的納米材料研究所（I.S.M.N.）在以下方面密切合作：
? 自旋電子材料和過程
? 創(chuàng)新薄膜沉積技術(shù)的發(fā)展
? 有機(jī)薄膜處理和診斷的發(fā)展
公司致力于發(fā)展商業(yè)技術(shù)來發(fā)展創(chuàng)新的基于有機(jī)半導(dǎo)體的自旋電子存儲器和邏輯元件和通過自旋極化注射來改進(jìn)OLED 顯示器的效率。
脈沖等離子體沉積設(shè)備介紹：
Organic Spintronics公司與意大利******研究委員會納米材料研究所實(shí)驗(yàn)室合作致力于提高包括SiC、單臂納米管、復(fù)雜光涂層、有機(jī)薄膜的沉積過程。脈沖等離子體沉積（Pulsed Plasma Deposition,PPD）作為PVD（物理氣相沉積）技術(shù)的***個選擇，可生長多種復(fù)合材料的高質(zhì)量薄膜。PPD也叫渠道火花燒蝕法（Channel Spark Ablation,CSA）,或者脈沖電子束沉積（Pulsed Electron Deposition，PED）,它是利用中空陰極管中的長管（通道）產(chǎn)生脈沖等離子體的毫微秒脈沖轟擊消融旋轉(zhuǎn)的靶材，原料蒸氣沉積在合適的加熱襯底上（***大1000 °C）形成薄膜。脈沖等離子體沉積在靶材表面產(chǎn)生高能量密度（500 MW/cm2）而不依賴于光學(xué)吸收。
脈沖等離子體沉積可沉積傳統(tǒng)技術(shù)不能制備的材料的高質(zhì)量薄膜。使用高能量效率使絕緣體的沉積速率從
10-3到5nm/s，通常可在超過1”襯底上沉積薄膜。這套系統(tǒng)結(jié)構(gòu)簡單耐用，比起脈沖
激光沉積來說，在安裝和運(yùn)營成本方面非常便利，能量消耗特別低。系統(tǒng)的潛力在以下方面還具有可測量性：
? 用于生產(chǎn)異質(zhì)多層膜的多靶構(gòu)造
? 大面積應(yīng)用方面的復(fù)合源
脈沖等離子體沉積的應(yīng)用
? 高溫超導(dǎo)薄膜（如YBCO等）
? 巨磁阻的鐵磁薄膜（如LSMO等）
? 金屬
? 半導(dǎo)體
? 高非導(dǎo)電絕緣體
? 過渡層
? 硬質(zhì)涂層
? 透明導(dǎo)電氧化物薄膜（如TCO等）
? 超高溫材料
? 聚四氟乙烯
有機(jī)分子束沉積(OMBD) 設(shè)備和有機(jī)克努森池(Organic Knudsen Cell):
自旋電子學(xué)是信息通過載流子自旋傳輸?shù)?**門新學(xué)科。由于有機(jī)半導(dǎo)體的散射速率比無機(jī)半導(dǎo)體的要小幾個數(shù)量***，因此特別適合于自旋極化的傳輸。目前有機(jī)電子學(xué)是自旋電子學(xué)的***個新的領(lǐng)域，其中的自旋器件由有機(jī)半導(dǎo)體和磁性金屬組成，用OMBD制備的有機(jī)半導(dǎo)體和磁性金屬的結(jié)合可實(shí)現(xiàn)低散射速率和室溫操作。公司提供生長有機(jī)薄膜的元件有高真空和超高真空有機(jī)克努森池，專利的加熱元件經(jīng)過優(yōu)化產(chǎn)生極均勻和恒定的分子流量，對外部周圍環(huán)境具有低的熱傳導(dǎo)；對溫度梯度斷面得仔細(xì)設(shè)計排除了有機(jī)物在出口孔處的凝結(jié)；三層鉭加熱屏提供了非常有效的熱屏蔽。
有機(jī)分子束沉積應(yīng)用領(lǐng)域：
有機(jī)半導(dǎo)體，OLED，有機(jī)絕緣體，磁傳感器, 非易失性存儲元件，邏輯自旋器件(自旋場效應(yīng)晶體管)
滬公網(wǎng)安備31011502016460號
